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产品概述:OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉,其炉管直径为4英寸。此款设备可使样品最大 升温速率达到50°C/S,此款设备不仅可对样品进行快速热处理,还可采用HPCVD方法来生长二维晶体(一个加热区 用来盛放固体蒸发原料,另一个加热区用于沉积样品)。 主要特点: 采用短波红外灯管对样品加热,可达到快速加热的效果。 双温区快速升温,最高达50°C/s。 超大管径中110mm。 最高温度可达1100°C。 主要特点 双层壳体结构,并带有风冷系统,可有效降低壳体表面温度 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命。 法兰上安装有滑轨可直接推拉操作。 开门断电,提高实验安全性。 可选装波纹管推拉式伸缩架,样品架可在内部伸缩式波纹管中滑动,实现在真空或受控气氛下实现快速加热或冷却。 技术参数: 最大1100°C,持续时间<10分钟最大1000°C,持续≤20分钟(注意:如果运行时间更长,炉壳将>100°C,必须使用风扇从外部冷却炉壳)最大800°C,持续时间<120分钟连续温度最高600°C 法兰:KF-25D型不锈钢高真空法兰 加热元件:16根红外灯管(每根1.5KW) 基本参数 最大功率:24KW 设备电源:AC380V/50HZ单相 循环水流量:0.5m3/h 温控系统: 采用PID方式调节温度,可设置50段升降温程序 温控系统 温控仪表中带有过热和断偶保护 仪表控温精度:+/-1°C 热电偶型号:K型 |
